北京大學(xué)的研究人員開發(fā)了一種新型多模態(tài)框架FakeShield，能夠檢測圖像偽造、定位篡改區(qū)域，并提供基于像素和圖像語義錯誤的合理解釋，可以提高圖像偽造檢測的可解釋性和泛化能力。
隨著生成式人工智能(AIGC)的迅猛發(fā)展，圖像編輯與合成技術(shù)變得愈加成熟與普及。這一趨勢為圖像內(nèi)容創(chuàng)作帶來了便捷的同時，也顯著增加了篡改檢測的難度。
用戶能夠通過Photoshop、DeepFake、AIGC等工具對圖像進行高質(zhì)量編輯，且往往不留任何痕跡。在此背景下，如何準確檢測并定位篡改區(qū)域，成為了學(xué)術(shù)界與工業(yè)界的關(guān)注重點。
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